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  • 支撑半导体制造嘅日本设备同材料厂商

    转载:本文嚟自微信公众号“日经中文网”(ID:rijingzhongwenwang),作者:佐藤俊简、龙元秀明、长谷川雄大、三田敬大、生田弦己、广井洋一郎、中村裕 台北、佐藤浩实 硅谷,转载经授权发布。

    日本嘅半导体厂商被海外企业迫压,失去‌之前嘅强劲势头,但是如果将目光投向电路“微细化”等支撑半导体发展嘅制造设备领域,日本企业仍显示出巨大嘅存在感。由于高速通信标准“5G”嘅普及同新冠疫情扩大带嚟嘅宅消费,半导体市场呈现盛况,喺此背景下,设备企业嘅增长预期都在加强。

    半导体为‌实现节能同提高处理速度,不断推进电子电路嘅微细化。SMBC日兴证券嘅分析师花屋武认为,“对半导体企业嚟讲,半导体设备企业将是下一步科研嘅重要伙伴”。

    支撑半导体制造嘅日本设备同材料厂商

    半导体嘅制造流程分为在硅晶圆上形成电子电路嘅“前工序”、封装同性能测试等“后工序”。日本嘅半导体相关领域代表性企业东京电子是仅次于美国应用材料公司同荷兰ASML控股,喺营业收入上排在世界第3位嘅“前工序”设备企业。“前工序”嘅微细化技术嘅发展迅速,股票市场对竞争力高嘅设备企业嘅评价都在提高。东京电子嘅股价同新冠疫情前嘅2019年底相比上涨逾7成,总市值超过6.6万亿日元。

    在“前工序”,应用照片技术嘅设备好多,东京电子在晶圆上涂布光刻胶(感光材料)、呈现电子电路嘅“涂布显影设备”领域掌握9成全球份额。喺利用气体去除电路以外嘅多余部分嘅“蚀刻”等领域都具有优势。喺日本嘅“前工序”企业度,喺清洗晶圆、去除杂质嘅“清洗”领域,SCREEN控股都具有优势。

    在“前工序”之度,被认为附加值最高嘅系在硅晶圆上烧制出电子电路图嘅“光刻”设备。电路线宽为5纳米(纳米为10亿分之1米)同3纳米嘅最尖端半导体嘅光刻需要采用被称为“EUV(极紫外)”嘅技术,由ASML垄断。此外,喺同光刻关系密切嘅领域正快速增长嘅系日本嘅Lasertec。

    在光刻工序,利用照相技术在晶圆上转印电路图,相当于原板嘅系“光掩模”。Lasertec涉足检测光掩模系咪有缺陷嘅设备,100%供畀采用EUV光嘅机型。同2019年底相比,股价涨至逾2倍,总市值突破1.2万亿日元。

    在日本,喺“后工序”拥有较高份额嘅设备企业好多。喺切割烧制电路嘅晶圆、制成芯片嘅切割设备领域,DISCO拥有最大份额。喺测试已完工半导体芯片嘅性能,被称为“测试仪”嘅设备领域,日本企业Advantest是世界2强之一。

    日本在晶圆同光刻胶拥有较高全球份额

    在半导体材料领域,日本国内企业都具有较高竞争力。喺支持微细化嘅技术开发方面,作为基板材料嘅硅晶圆同制造过程使用嘅光刻胶(感光性树脂)等拥有世界最大份额。日本嘅综合化学企业都在加强利润率高嘅半导体材料业务,对业绩构成支撑。

    支撑半导体制造嘅日本设备同材料厂商

    在作为基板材料嘅硅晶圆领域,日本企业掌握最大份额

    在硅晶圆领域,排在世界首位嘅信越化学工业同SUMCO合计掌握约6成份额。喺用于高速通信标准“5G”同数据中心等尖端产品嘅直径300毫米产品方面具有优势。

    2020年度受到新冠疫情嘅影响,但市场预期平均(Quick Consensus)显示,两家企业2021年度都有望实现营收同利润增长。股价都超过新冠疫情前嘅水平,SUMCO徘徊在约2年零9个月以嚟新高附近。目前处于调整局面嘅信越化学都在2021年1月创出上市以嚟高点。

    支撑半导体制造嘅日本设备同材料厂商

    对于JSR嘅光刻胶,好多观点对利润率之高畀予积极评价

    在晶圆行业,居份额第3位嘅台湾环球晶圆预计收购居第4位嘅德国世创公司(Siltronic)。按单纯计算将超过SUMCO,跃居份额第2位。但在尖端产品领域,日本企业仍有优势。尤其系信越化学“经营嘅判断力、同客户嘅谈判技巧同稳健嘅财务状况发挥作用,首位宝座高枕无忧”(摩根士丹利MUFG证券嘅分析师渡部贵人)。

    关于在晶圆上烧制电路之际使用嘅光刻胶,日本企业掌握9成左右份额。JSR同东京应化工业等是代表性企业。据称材料无办法分解,不易被模仿,一直积累技术实力嘅日本企业占据优势。

    2019年日本政府收紧对韩国嘅半导体材料出口管理,影响曾令人担忧,但目前日本企业嘅业绩并未受到明显影响。东京应化2021财年有望连续2年创出利润新高。而从JSR嚟睇,包括光刻胶在内嘅数字解决方案业务在新冠病情下都确保‌营收同利润增长。

    之前以石油化学为业务核心嘅日本综合化学企业近年嚟都专注于附加值高嘅半导体材料。主要产品包括清洗剂同用于薄膜形状加工嘅特殊气体等。同汽车用零部件等一齐,正喺度拉动目前嘅业绩复苏。

    2019年同半导体制造设备大型企业荷兰ASML签署授权协议嘅三井化学嘅EUV(极紫外)薄膜(Pellicle)自2021年度起商业化。这是用于光刻工序防尘嘅产品,备受市场关注。

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    2021-03-23 13:35:35

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